光学光电清洗机的使用需根据设备类型（如超声波、激光或溶剂型）调整操作流程，以下是通用步骤及注意事项：
一、基础操作流程
设备准备
检查电源、气源（如激光清洗机需0.5MPa氮气或洁净空气）及清洗液（去离子水或专用溶剂）是否就位。
确保工作台平整，周围无杂物，穿戴防护装备（护目镜、手套）。
参数设置
超声波清洗机：频率40-80kHz，温度30-50℃，时间5-15分钟（视污渍程度调整）。
激光清洗机：功率、扫描频率（推荐80Hz）及脉冲频率（默认2000）需按工艺要求设定。
样品放置
将光学件置于专用托架中，避免直接接触槽底，确保均匀受力。
激光清洗时需校准红光焦*，确保对准清洗区域。
二、清洗剂选择与维护
溶剂类型
有机溶剂（如三氯乙烯替代品）适用于沥青、油污，需配合超声波使用。
水基清洗剂（含十二烷基硫酸钠、EDTA等）适合金属离子残留，需控制温度40-50℃。
维护要*
定期更换水箱水（每月一次），清理散热网及冷凝器。
溶剂槽需加热至40-60℃以增强溶解效果，并检查超声振荡器状态。
三、安全与注意事项
风险规避
避免使用强酸强碱或含氨清洗剂，以防腐蚀镀膜。
激光设备需检查气阀密封性，防止漏气或漏水。
异常处理
运行中若出现异响或停机，立即断电排查。
镀膜镜片需先测试超声耐受性，避免脱胶或损伤。
四、扩展应用场景
光伏组件清洗：需匹配专用清洗剂及低功率参数，避免损伤硅片绒面。
复杂零件清洗：多槽超声波机（如三氯乙烯→氢氧化钠→高岭土）可分层去除顽固污渍。
通过以上步骤可**完成清洗，同时延长设备寿命。不同型号需参考具体手册调整参数。
